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JKNM-X1100掃描圖像粒度粒形分析系統
    發布時間: 2015-09-05 09:02    



JKNM-X1100
掃描圖像粒度粒形分析系統

集靜態和動態優點于一身的掃描圖像粒度粒形分析系統


  

 


       JKNM-X1100系統針對快速、準確和精確操作而進行優化。軟件和硬件組件被選擇用來降低復雜性以及提高數據量。由顯微鏡、數碼相機、電動載物臺、控制器和樣件固定裝置組成的系統,滿足客戶對于光學分辨率、照明和數據量的需求。同時采用了多種國內外先進的軟硬件技術,包括全自動三維勻速運動系統、自動對焦系統、全景圖像無縫合成技術、超大顆粒提取分析系統等技術。



主要技術參數




項目

指標

測試范圍

1-10000 微米

放大倍數

30-1000倍

重復性誤差

≤1%(國標樣D50偏差)

準確性誤差

≤1%(國標樣D50偏差)

顆粒識別速度

≥10000個/分鐘

進口高速CCD

120幀/秒

掃描范圍

直徑為55mm

測量時間

≤10分鐘

漏檢率

≤3%(10微米以上顆粒無漏檢)

金屬顆粒識別準確率

>90%

纖維顆粒識別準確率

>90%




應用領域




· 磨料:如碳化硅、剛玉、金剛石、石榴石等。

· 電池材料:球形石墨粉等。

· 金屬粉:如球形鋁粉、鉛錫合金粉、其他霧化金屬粉。

· 非金屬粉:如玻璃珠、聚苯乙烯等。

· 針狀粉:如硅灰石等。

· 其他:如科研、教學等。

 

產品類別
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